台湾トラスバル社炭酸水製造供給装置は、ヘンリーの法則を利用し高濃度の炭酸水を製造します。
高濃度の炭酸水を希望する導電率に純水で希釈しながら供給します。
導電率設定は高濃度炭酸水と希釈用純水の流量比率を調整して行います。
トラスバル社この炭酸水製造供給装置の開発で５つの特許を申請中です。
台湾トラスバル社炭酸水製造供給装置は、ヘンリーの法則を利用し高濃度の炭酸水を製造します。
高濃度の炭酸水を希望する導電率に純水で希釈しながら供給します。
導電率設定は高濃度炭酸水と希釈用純水の流量比率を調整して行います。
トラスバル社この炭酸水製造供給装置の開発で５つの特許を申請中です。
台湾大手半導体メーカーで、国内大手メーカーの洗浄機への接続実績が多数あります。
| 構造図 | 仕様 | |||
|---|---|---|---|---|
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性能 | 炭酸水流量 | 10～80L/分* | |
| 導電率設定範囲 | 0～40μS/cm** | |||
| 導電率安定性 | ±2μS/cm @33μS/cm | |||
| 用役 | 炭酸水用純水 | 流量 | 30L/分 | |
| 圧力 | 0.42MPa | |||
| 希釈用純水 | 流量 | 100L/分 | ||
| 圧力 | 0.42MPa | |||
| 炭酸ガス | 流量 | 30L/分 | ||
| 圧力 | 0.7MPa | |||
| 高純度N2
（パージ用） |
流量 | 30L/分 | ||
| 圧力 | 0.56MPa | |||
| CDA
(ポンプ冷却) |
流量 | 30L/分 | ||
| 圧力 | 0.56MPa | |||
| 電源 | 三相200V 50/60Hz | |||
| 消費電力 | 15A | |||
| サイズ | 設置面積（W x D） | 1,100 x 1,200mm | ||
| 高さ | 2,000mm | |||
| 重量 | 450kg | |||
*設定する導電率で最大流量は変化します。
**ヘンリーの法則により大気圧での導電率は約40μS/cmです。 40μS/cm以上に設定する場合は、ユースポイントが高圧である必要があります。
| 流量が変化しても、大流量になっても安定した導電率維持します。 | ||||
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| 希釈用純水の流量 | 40L/分 | 60L/分 | 80L/分 | 96L/分 |
|---|---|---|---|---|
| 高濃度炭酸水の流量 | 8L/分 | 12L/分 | 16L/分 | 19.2L/分 |
| 33μS/cm の炭酸水流量 | 48L/分 | 72L/分 | 86L/分 | 115.2L/分 |
| 平均導電率 | 33.2μS/cm | 32μS/cm | 31.8μS/cm | 31.5μS/cm |
| 流量を50L/分、導電率を31.5μS/cmに設定して5日間稼働しました。 導電率は±2μS/cm以内で安定した炭酸水を供給しています。 |
 |
| ヘンリーの法則、実証実験です。 理論値と実測値はほぼ一致しました。 | |||||
| 温度 | 飽和蒸気圧 | 炭酸ガス圧力 | 導電率 | ||
|---|---|---|---|---|---|
| 理論値 | 測定値 | ||||
| ℃ | Kpa | atm (a) | atm (a) | μS/cm | μS/cm |
| 25 | 3.169 | 0.031 | 1.0 | 47.60 | 46.3 |
| 25 | 3.169 | 0.031 | 2.0 | 67.86 | 67.2 |
| 25 | 3.169 | 0.031 | 3.0 | 83.33 | 82.8 |
| 25 | 3.169 | 0.031 | 4.0 | 96.35 | 97.8 |
| 25 | 3.169 | 0.031 | 4.5 | 102.24 | 102.3 |
| 25 | 3.169 | 0.031 | 5.0 | 107.81 | 107.7 |
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 高濃度炭酸水タンク |
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